通過用于高級半導體制造的完整解決方案來提高工藝良率。

在半導體生產車間中，微污染會帶來巨大的問題。捷霖凈化提供了廣泛的解決方案-顆粒預過濾器，HEPA和ULPA過濾器以及AMC控制解決方案-可以將無塵室中的顆粒物和分子濃度降低到顆粒物的ISO 1級水平和AMC的亞ppb水平。

AMC過濾器和控制比無塵室過濾更重要

空氣傳播的分子污染（AMC）對小尺寸半導體制造提出了特殊挑戰。酸，堿，有機物，耐火材料和摻雜劑的不良化學反應會影響晶片表面和工藝設備的光學器件，從而在芯片生產過程中產生缺陷，并降低設備和工具的效率。

在關鍵的潔凈室制造過程中，AMC越來越重要。隨著規格要求的提高和設備尺寸的縮小，過程控制面臨巨大的壓力。晶圓可以在工廠內呆上一個月的時間，在交付最終產品之前要經過數百個過程。該工藝鏈中任何微小的污染影響都可能對晶圓廠的整體成品率造成嚴重影響。

另一個挑戰在于更大尺寸的晶圓的普遍化，這增加了單個晶圓的成本，并增加了在工具級別對納米顆粒和AMC保護的需求。此外，EUV和多圖案DUV光刻中使用的無缺陷掩模的成本不斷上漲，這給設施以及小型環境（如檢查設備和掩模庫存機）的污染控制系統帶來了壓力。

保護您的工藝設備和晶圓免受納米顆粒和空氣中的分子污染物的侵害

捷霖凈化解決方案在半導體制造環境中提供了經過現場和實驗室驗證的保護，包括光刻，蝕刻，擴散，金屬化，薄膜，離子注入，檢查工具以及標線片或晶圓存儲區。

工藝工具空氣濾清器

潔凈室空氣過濾器

掃描儀預過濾系統

設施系統的節能高效排氣解決方案

廣州捷霖凈化的顆粒物預過濾器系列可確保在補充空氣處理機組中使用最低的能量，同時防止HEPA過濾器堵塞并且不釋放硼。經過多年的膠粘劑和介質化學性能的發展，捷霖凈化的HEPA和ULPA過濾器旨在釋放出盡可能少的有機污染物（所謂的低放氣）。用于晶圓切割的排氣系統以及用于通用排氣備用系統的氣體洗滌器可以保護環境免受工藝污染。

無硼合成預濾器

低能量預過濾器

低放氣的HEPA和ULPA過濾器

灰塵收集器和氣體洗滌器，可產生更清潔的廢氣